並列分散処理機構やジョブ管理機能により、OPC処理などで大規模かつ複雑化した設計データの変換も効率的に行うことができます。また、微小図形の発生を抑制する優れた台形分割技術や豊富な図形演算機能により、各マスク描画装置に適したパターンデータを生成し、マスク描画時のランニングコストおよびTATを削減することが可能です。さらに、「LAVIS」のビューア機能を利用することで、データを確認しながら視覚的にフラクチャリングや比較演算、MRC（Mask Rule Check）を実行することもできます。

超高速変換

効率の良い並列分散処理機構により、並列処理数の増加に応じて、ほぼ理論値通りに処理時間を短縮することが可能です。200並列以上での運用実績もあり、今後、さらに肥大化していくデータサイズにも柔軟に対応することができます。

マルチフォーマット対応

• （入力）

GDSII	Version 5/ 6/ 7
OASIS	1.0
JEOL52	V1.0/ V1.1/ V2.1/ V3.0/ V3.1/ JOB
MEBES（*）	RETICLE/ MODE5/JOB
Hitachi	HL700/ HL800/ HL900/ HL950/ HL7000/ JOB
Toshiba/NuFlare Tech.	VSB11/ VSB12/ JOB
MICRONIC	1.6
LAVIS	PILOT
USER	USER-Format

• （出力）

GDSII	Version 6/ 7
OASIS	1.0
JEOL52	V1.0/ V2.1/ V3.0/ V3.1/ JOB
MEBES	RETICLE/ MODE5 / JOB
Hitachi	HL700/ HL800/ HL900/ HL950/ HL7000/ JOB
Toshiba/NuFlare Tech.	VSB11/ VSB12/ JOB
MIRCONIC	1.6

マルチプラットフォーム対応

以下のプラットフォームに対応しています。
クラスタを構築する場合、異なるアーキテクチャのマシンを用いることも可能です。

RedHat Enterprise Linux WS/ES/AS 3, 4, 5 (x86_64)

ユーザーフレンドリーGUI

変換処理（ジョブ）の投入状況や実行状況などを表示するGUIを提供しています。処理の進捗状況が一目で確認できるため、処理完了までの予測がしやすく、生成されたデータを後工程で使用するスケジューリングも容易です。
また、変換に必要な指示書（ルールファイル）を対話的に作成するルールエディタを標準搭載しているため、導入初期で不慣れな場合でも、各種機能を使いこなすことができます。

データの肥大化と微細化への対応

近年のファイルサイズの肥大化に対処するため、指定された出力フォーマットに応じ、フォーマットごとにデータサイズを最適に分割、圧縮することができます。また、各種圧縮形式のデータを展開せずに処理することも可能です。
さらに、プロセスの微細化が進み、フラクチャリングシステムには高速処理だけでなく、より精度の高い出力が求められていますが、MaskStudioでは精度の低下につながる微小図形の発生を独自の処理で抑止します。

MRC機能の搭載

OPC処理からEBデータに変換した後のデータが製造上の問題を内包していないことを確認するMRC（Mask Rule Check）機能を搭載しています。MRCは独立して行うことも、EB変換時に並行して行うことも可能です。MRC機能により、後工程での問題を事前に回避することができます。

他ツールとの連係

弊社レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」や、他ベンダツールをMaskStudio内部から呼び出し、関連するオペレーションを一括処理することが可能です。