近年のプロセス技術の微細化に伴い、 LSI設計データの大規模化は更に加速し、 設計フローもますます複雑化してきています。
また、DFM/RETといった設計段階から製造工程を意識したアプローチも必要となり、 全工程一貫したレイアウトプラットフォームの標準化は、 品質の向上や開発期間短縮に欠かすことのできないものとなってきています。
LAVISなら、独自の表示方式とメモリ管理手法により、 大規模データを効率的に入力・表示することができます。
さらに、GDSIIをはじめとする設計データや、マスク描画装置フォーマットにも対応し、 他ツールとの I/F構築も容易なことから、設計・検証・マスク製造・検査・不良解析など、 全工程共通の「標準レイアウトプラットフォーム」として使用することが可能です。

大規模対応

64ビットアドレス／ラージファイルに対応しているので、2G超の大規模データへも適用できます。

超高速／高効率

高速表示機構を備えているので、大規模データでもユーザにストレスを与えません。 また、効率的なメモリ管理機構により、大規模データでも、最小限のメモリ資源で動作します。

マルチフォーマット対応

GDSII , OASIS , LEF/DEF , MEBES , JEOL , HL ,TOSHIBA(VSB-11,12)

マルチプラットフォーム対応

EWS／PC両環境において統一的な操作性を提供します。

SUN(SPARC) : Solaris
HP(PA-RISC): HP-UX
PC(x86_64) : Linux
PC(x86) : Linux / Windows

直感的で標準的なユーザーインターフェース

Linux等で多くの実績を持つ直感的で標準的なGUIを採用しているので、 初めての方から慣れた方まで、優れた操作性を提供します。

ユーザカスタマイズ

豊富なカスタマイズ機能により、ユーザ、データ等、各々に合わせた多様な操作環境を構築できます。

他ツール／装置との連携

他ベンダツールや、装置とのインテグレーションが容易です。