近年のプロセス技術の微細化に伴い、LSIレイアウト設計データはますます大規模化し、設計フローも複雑化しています。そのため、DFM/RETといった設計段階から製造工程を意識したアプローチも必要となり、全ての工程で一貫して使用できるレイアウトプラットフォームの標準化は、品質の向上や開発期間短縮に欠かすことのできないものとなっています。
LAVISは、GDSやOASIS、LEF/DEFに加え、各種マスク描画装置フォーマットにも対応し、他社製EDAツールや装置とのインターフェース構築も容易なことから、設計、検証、マスク製造、検査、不良解析など、全工程共通の「標準レイアウトプラットフォーム」として使用することが可能です。

大規模対応

64ビットアドレス／ラージファイルに対応しているので、2G超の大規模データも扱えます。

超高速／高効率

高速表示機構を備えているので、大規模データでもユーザにストレスを与えません。また、効率的なメモリ管理機構により、大規模データでも最小限のメモリ資源で動作します。

マルチフォーマット対応

GDS , OASIS , LEF/DEF , MEBES , JEOL , HL ,TOSHIBA

マルチプラットフォーム対応

EWS／PC両環境において統一的な操作性を提供します。

SUN(SPARC) : Solaris
PC(x86_64) : Linux
PC(x86) : Linux / Windows

直感的で標準的なユーザーインターフェース

Linux等で多くの実績を持つ直感的で標準的なGUIを採用しているので、初めての方から慣れた方まで、優れた操作性を提供します。

ユーザカスタマイズ

豊富なカスタマイズ機能により、ユーザ、データ等、各々に合わせた多様な操作環境を構築できます。

他社製EDAツールや装置との連係

他社製EDAツールや装置とのインテグレーションが容易です。