Document Actions
2010年2月 - SPIE Advanced Lithography 2010に出展
TOOL社は、米国San Joseで開催されます「SPIE Advanced Lithography 2010」に、レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」を出展いたします。超高速ビューアとしてのみならず、OPCデータの重ね合わせ表示やDensityMap表示機能を搭載し、リソシミュレータやCD測長装置とのインテグレーションも容易なLAVISを利用した効果的な視覚検証をご紹介します。
また、OASISデータ環境へのスムーズな移行を実現する「OASIS-Utility」も合わせてご紹介します。
| 2010年2月21（日） ～ 25日（木）  |
| 2010年2月23日（火）10:00 ～ 17:00 2010年2月24日（水）10:00 ～ 16:00 |
| San Jose Convention Center ブース番号：117 |