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2010年6月 - TOOL社、レイアウト表示プラットフォーム LAVISの最新版を発表

2010年6月11日 東京 - TOOL株式会社(本社:東京都目黒区、代表取締役社長、本垰秀昭、以下 TOOL)はこのたび、レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」の最新版、「LAVIS Ver.10.0」をリリースいたしました。本バージョンでは、タイミング解析結果の表示やクロックツリーの確認などを簡単かつ視覚的に行うことができる「ルート探索機能」を新たに搭載しました。また、追跡ノードに対して配線幅やノード間の間隔などといったルールチェックも行える等電位追跡機能の更なる強化を行うなど、設計TATの短縮にますますご活用いただけるようになりました。

本バージョンでは、多岐にわたる機能の追加と既存機能の強化が行われています。
主な内容は以下のとおりです。

  (1) ルート探索機能の追加
        LEF/DEFデータ上で指定コンポーネントからの経路を効率的に追跡することができる、「ルート
        探索機能」を新たに搭載しました。本機能は、タイミング違反経路の検証や、故障経路を絞り込
        む用途として大変有用です。

  (2) 等電位追跡機能の拡張
        等電位追跡の一機能として、コンタクト接続部分で抵抗値が高くなる箇所を自動的に検出する
        機能を追加しました。本機能により、電気特性的に想定した抵抗値がコンタクト部で実現されて
        いるかどうかを容易に確認することができます。

  (3) 幅・間隔計測機能の拡張
        計測機能で、計測箇所に図形が存在するかしないかを自動的に判別することにより、L/Sの
        計測結果を区別して出力することが可能になりました。また、測長指示ファイルの内容に
        従って複数のパターン幅や間隔を自動的に計測する機能も、お客様のご要望に応じて個別に
        ご提供することができます。

上記のほかにも、計測機能に追加された複数の図形の中心間の距離を計測する機能、色や線幅の変更や移動などを一括して行えるマーカーのグループ化機能、図形演算機能のOASISデータ対応、オプションの簡易編集機能や3次元表示機能の強化など、さまざまな機能拡張を行いました。

TOOLの代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたびのエンハンスでは、タイミング解析や故障解析の場面でも補助ツールとしてお使いただける機能を追加しました。今後も  お客様のニーズを的確、かつ迅速に把握し、さまざまな分野でLAVISをご活用いいただけるよう、機能の追加と拡張を図ってまいります。」

LAVISについて

大規模対応・超高速表示・マルチフォーマット対応の多目的レイアウト表示プラットフォームです。独自の表示方式とメモリ管理手法により、大規模データを効率的に入力、表示することができます。 さらに、GDSやOASIS、LEF/DEF、各種マスク描画装置フォーマットなど、あらゆるフォーマットに対応し、他社製EDAツールや装置とのインターフェース構築も容易なことから、設計・検証・マスク製造・検査・不良解析など、全工程共通の「標準レイアウトプラットフォーム」として使用することが可能です。

TOOLについて

TOOL社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、自社開発ツール「LAVIS」や「MaskStudio」を代表に多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/ をご覧ください。

本件に関するお問い合わせ先

TOOL株式会社
EDA事業部 広報室 中根麻子
03-5723-8144
marketing@tool.co.jp