2009年10月 - TOOL社、レイアウト表示プラットフォーム LAVISの最新版を発表
2009年10月19日 東京 - TOOL株式会社(本社:東京都目黒区、代表取締役社長、本垰秀昭、以下 TOOL)はこのたび、レイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」の最新版、「LAVIS Ver.9.1」をリリースいたしました。本バージョンでは、さまざまなフォーマットの描画速度をさらに向上するとともに、等電位追跡機能の拡張と簡易編集機能の強化を行いました。これにより、レイアウト設計フローにおける早期簡易検証とデータ編集を今まで以上に円滑に行うことが可能となり、描画速度の向上と合わせて設計TATの短縮にお役立ていただけます。
本バージョンでは、多岐にわたる機能の追加と既存機能の強化が行われています。
主な内容は以下のとおりです。
(1) 等電位追跡機能の拡張
追跡したノードの最大幅と最小幅、およびその場所と個数を検出する機能を追加しました。
検出結果はGDSファイルに出力され、用途に応じて元データと同期、もしくは重ね合わせて
表示することができます。また、接続箇所当りのビア数をチェックする機能では、チェック
結果の出力形態を改善し、統計的数量として容易に把握できるようにしました。これらの
機能拡張により、設計の早期段階における簡易レイアウト検証作業の容易化を実現できます。
(2) ファイルオープンおよび描画速度の向上
MEBESおよびJEOL52パターンファイルにおいて、潰れて表示されるような小さな図形の表示
処理を最適化し、描画全体の速度を改善しました。また、MEBESパターンファイルについては
オープン速度も改善しました。さらにMEBESジョブデックファイルの描画については、新しい
描画技術を取り入れたことで飛躍的に描画速度の改善を図ることができました。
(3) 簡易編集機能(オプション)の強化
LAVISのオプション、「簡易編集機能」において、領域指定による編集を可能にしました。
また、編集対象をセルにするか、図形にするかの指定や図形のミラーリング、さらには同様の
編集を繰り返す際に便利な移動量の保持機能も搭載しました。これらの機能強化により、編集
時間の短縮を図ることが可能となり、手軽に利用できる「簡易エディタ」としてのユーザビリ
ティが、さらに向上しました。
上記のほかにも、追跡ノードを強調表示する際のブリンク表示機能の追加や、計測機能や検索機能の強化、故障解析に有用な画像貼り付け機能の拡張など、使い勝手の向上と多数の機能拡張を図りました。
TOOLの代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたびのバージョンアップでは、設計TATの短縮に必要不可欠な性能の向上に加えて、設計の早期段階で有用な簡易検証機能と編集機能の強化を図りました。今後もお客様のニーズを的確、かつ迅速に把握し、あらゆる分野でLAVISをお使いいただけるよう、機能の追加と拡張を図ってまいります。」
LAVISについて
大規模対応・超高速表示・マルチフォーマット対応の多目的レイアウト表示プラットフォームです。独自の表示方式とメモリ管理手法により、大規模データを効率的に入力、表示することができます。 さらに、GDSやOASIS、LEF/DEF、各種マスク描画装置フォーマットなど、あらゆるフォーマットに対応し、他社製EDAツールや装置とのインターフェース構築も容易なことから、設計・検証・マスク製造・検査・不良解析など、全工程共通の「標準レイアウトプラットフォーム」として使用することが可能です。
TOOLについて
TOOL社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、自社開発ツール「LAVIS」や「MaskStudio」を代表に多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/ をご覧ください。
本件に関するお問い合わせ先
TOOL株式会社
営業部 マーケティンググループ
中根麻子
03-5723-8144
marketing@tool.co.jp