2009年4月 - TOOL社のLAVISを東京大学大規模集積システム設計教育研究センターが採用
2009年4月6日 東京 - TOOL株式会社(本社:東京都目黒区、代表取締役社長 本垰秀昭、以下 TOOL)のレイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」がこのたび、東京大学大規模集積システム設計教育研究センター(以下、VDEC)に採用されました。VDECは平成8年の設立以来、国内の国公私立大学および工業高等専門学校におけるVLSI設計教育の充実と研究活動を推進し、これまで設計技術情報やチップ試作、設計セミナー等を全国に向けて企画・提供しています。今回の採用により、LAVISは研究や教育の場においても幅広く活用されることになります。
LAVISは、大規模LSI設計データを高速かつ効率的に表示することができるレイアウトビューアとして広く利用されています。また、他社製EDAツールや装置との親和性が高く、あらゆる設計データやマスク描画装置フォーマットにも対応していることから、設計、検証、マスク製造、検査、不良解析など、すべての工程で使用することが可能です。また、最新版に搭載されたダブルビアチェックや抵抗値計算機能、OASIS編集機能(オプション)により、「簡易チェッカー」や「簡易エディタ」としてもますます活用されるようになりました。
VDECの池田誠准教授は次のように述べています。「LSIの研究開発の分野においても、設計データの大規模化と微細化にともない、データを高速に読み込み、表示する高性能ビューアの需要が高まっています。LAVISはその性能のみならず等電位追跡を含む豊富な機能を備えており、他社製EDAツールとの親和性も高いことからデバッガとしても活用できるため今回の採用を決めました。」
TOOLの代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたびVDECに当社のLAVISが導入され、LSI設計の研究開発や教育の場において活用いただけることを大変光栄に思います。今後もますます期待されるLSI技術の進展に貢献すべく、より一層研究教育機関との連携を深めて参る所存です。」
LAVIS について
大規模対応・超高速表示・マルチフォーマット対応の多目的レイアウト表示プラットフォームです。独自の表示方式とメモリ管理手法により、大規模データを効率的に入力、表示することができます。 さらに、GDSやOASIS、LEF/DEF、各種マスク描画装置フォーマットなど、あらゆるフォーマットに対応し、他ツールや装置とのインターフェース構築も容易なことから、設計・検証・マスク製造・検査・不良解析など、全工程共通の「標準レイアウトプラットフォーム」として使用することが可能です。
TOOL社 について
TOOL社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、自社開発ツール「LAVIS」や「MaskStudio」を代表に多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/ をご覧ください。
本件に関するお問い合わせ先
TOOL 株式会社
マーケティンググループ
中根麻子
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製品に関するお問い合わせ先
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