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2009年3月 - SPIE Advanced Lithography 2009 出展のご報告
先般、米国 San Jose にて開催されました、「SPIE Advanced Lithography 2009」 におきましては、ご多忙中にもかかわらず弊社ブースにお越しいただき、誠にありがとうございました。お蔭様をもちまして盛況のうちに終了いたしました。
今回の出展では、「MaskStudio」と「MS-lite」のご紹介に加えて、「Visual Solutions to DFM Verification」と題し、プレゼンテーションの機会を通じてレイアウト表示プラットフォーム「LAVIS」を活用した効果的な視覚検証手法についてもご紹介させていただきました。
今後もお客様のニーズにお応えしながら、ますます必要とされる製品をご提供できるよう、機能と性能の向上に努めてまいりますので、お引き立てのほど、よろしくお願い申し上げます。
なお、ご質問やご要望などがございましたら、お気軽にお問い合わせください。
SPIE Advanced Lithography 2009 展示会の様子
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