2008年12月 - Electronic Design and Solution Fair 2009に出展

EDSFair2009 TOOL社ブースでは、設計から検証、製造、検査にいたる全工程で活用できる視覚検証ツール、「LAVIS」に搭載された最新機能を一挙にご紹介します。
中でも、等電位追跡機能を用いた抵抗値計算やダブルビアのチェック、OASISの編集も可能になった簡易編集機能は必見です。ブースでのデモに加え、LAVISをこれから活用される方にも、既に活用いただいている方にも新たな発見をしていただける出展者セミナーをご用意しています。

さらに、GDSからOASISフォーマットへの移行における煩雑な作業を容易にするOASISデータハンドリングツール、「OASIS-Utility」や、設計データをマスク描画装置フォーマットに変換する高性能・大規模データ向けフライクチャリングシステム、「MaskStudio」、中小規模データ向けフラクチャリングシステム、「MS-lite」など、お客様の設計フローの効率化に有用な弊社製品群をぜひご覧ください。

また、弊社製品群とお客様固有の仕様との融合や、お客様のご要望に応じたプログラムの開発サービスにつきましてもご紹介いたしますので、お気軽にご相談ください。

なお、アンケートにお答えいただいたお客様には素敵な景品がその場で当たるおみくじをご用意しています。
皆さまのご来場をお待ちいたしております。

• 日 時     1月22日（木）、1月23日（金）   2日間
              10:00 ～ 18:00
• 会 場     パシフィコ横浜  アネックスホール
              ブース番号 409