2008年10月 - Photomask Technology 2008 出展のご報告

先般、米国のモントレーで開催されました、「Photomask Technology 2008」におきましては、ご多忙中にもかかわらず弊社ブースにお越しいただき、誠にありがとうございました。お蔭様をもちまして盛況のうちに終了いたしました。

今回の出展では、「MaskStudio」の最新版と、新製品、「MS-lite」のご紹介をデモを交えてご覧いただきました。MS-lite の出荷開始にともない、今後は用途に応じて、2 つの製品を使い分けてご使用いただけます。

今後も「MaskStudio」、「MS-lite」の機能追加、性能向上を図っていく所存ですので、よろしくお願い申し上げます。また、レイアウト表示プラットフォーム、「LAVIS」も、合わせましてよろしくお願い申し上げます。

なお、ご質問やご要望などがございましたら、お気軽にお問い合わせください。

Photomask Technology 2008 展示会の様子

TOOL社ブース

プレゼンテーション

TOOL CORPORATION