2008年9月12日 東京 - TOOL株式会社（本社：東京都目黒区、代表取締役社長、本垰秀昭、以下 TOOL）はこのたび、小規模・中規模クラスのレイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換するフラクチャリングシステム、「MS-lite」の販売を開始いたしました。分散処理を用いて大規模データのフラクチャリングに適した製品である「MaskStudio」に対し、MS-liteは、「マスクデータ生成をより手軽に、さらに身近なものに」をコンセプトに、中小規模データのフォーマット変換を手軽に、スピーディに行うことができる製品です。

本製品の主な特長は以下のとおりです。

   （１） MaskStudioで培われた技術をフル活用
         MaskStudioで実績のある「高性能」で「高品質」なフラクチャリング技術を活用している
         ため、GDSまたはEBフォーマットの入力により、精度の高いEBデータフォーマットに変換、
         出力することができます。出力フォーマットは、MEBES、JEOL、VSBの各EBデータに
         対応しています。
   （２） 小規模・中規模クラスのデータがターゲット
         MaskStudioが分散処理を用いるなどして大規模データのフラクチャリングを得意とする
         製品であるのに対し、MS-liteは中小規模データクラスを短時間でEBフォーマットに
         変換することを特長としています。そのため、Analog/RFやAnalog Mixed-Signal、
         LCDなど、中小規模のデザインのフラクチャリングに適しています。
   （３） 事前のルールファイル作成が不要
         一般的に、フラクチャリングを行う際にはルールファイルの作成に手間がかかりますが、
         MS-liteではウィザード形式GUI、またはコマンドラインからフラクチャリングを実行できる
         ため、事前のルールファイル作成は一切不要です。実行時に必要なオプションを設定する
         だけで、どなたでも手軽に簡単に操作を行うことができます。

「大規模データを扱うフラクチャリングソフトは、多岐に渡る処理機能に対して高いコストがかかりますが、MS-lite は必要な機能を用途に見合ったコストで運用できるので、導入を決めました。」というお客様の声をいただいております。

TOOLの代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたびのMS-liteの出荷開始により、中小規模のマスク処理を手がけておられるお客様のニーズにもお応えできるようになったことを嬉しく思います。今後もお客様の声を大切にしながら、先進プロセスにおけるフラクチャリングに必要な技術を念頭におき、MS-liteの提供を行ってまいる所存です。」

MS-liteは、4月にパシフィコ横浜で開催されたPhotomask Japan 2008に出展されました。また、10月に米国で開催される「Photomask Technology 2008」への出展を予定しております。

MS-liteについて

レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換する、中小規模向け・マルチフォーマット対応のフラクチャリングシステムです。MaskStudioで培われた経験と技術を活用し、図形演算処理機能をはじめとした高性能で高品質なフラクチャリング技術を採用しています。大規模データに偏りがちなフラクチャリング製品との差別化を図ることで、用途に応じたサービスをご提供します。フラクチャリングに必要な事前のルールファイルの準備が一切不要なため、はじめての方でも手軽に簡単にお使いいただくことができます。

TOOLについて

TOOL社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、自社開発ツール「LAVIS」や「MaskStudio」を代表に多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/ をご覧ください。

本件に関するお問い合わせ先

TOOL株式会社
マーケティンググループ
中根麻子
03-5723-8124
marketing@tool.co.jp

製品に関するお問い合わせ先

TOOL株式会社
営業部
03-5723-8144
sales@tool.co.jp