2008年6月20日 東京 - TOOL株式会社（本社：東京都目黒区、代表取締役社長 本垰秀昭、以下  TOOL）のレイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換するフラクチャリングシステム、「MaskStudio」の最新版が、このたび、大日本印刷株式会社（本社：東京都新宿区、代表取締役社長 北島義俊、以下 大日本印刷）の電子デバイス事業部にて主要ツールの一つとして採用されました。

微細化するプロセス技術と肥大化するレイアウト設計データに対応するためには、高精度で高速処理が可能なフラクチャリングシステムが必要不可欠となってきています。MaskStudioは種々の微小図形対策機能を有しており、これらの高精度な機能は先進データから量産品にいたるまで、あらゆる場面で威力を発揮します。最新版では、処理速度のさらなる向上とメモリ使用量の飛躍的な削減が図られました。MaskStudioは「高精度」と「高速処理」との両立を実現したフラクチャリングシステムとして、微細化するプロセス技術と肥大化するレイアウト設計データに柔軟に対応することができます。

大日本印刷 電子デバイス事業部 ISMS推進室長の柴山和範氏は次のように述べています。「大規模設計データに対するフラクチャリングの高速化が至上命題となっている中で、TOOL社のMaskStudioは当社が期待する処理速度を実現する性能と、微小図形対策機能を始めとする高精度な機能を兼ね備えていると言えます。従来と比較してTATが短縮され、分散数を増やすことでその効果は比例的に高まります。今後も、多岐に渡る製品に適用していきたいと考えています。」

TOOLの代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたび大日本印刷にMaskStudioの最新版を採用いただいたことにより、同社のフラクチャリングのさらなる効率化に貢献できることを大変光栄に思います。今後も、設計の大規模化に対するお客様のニーズをタイムリーにとらえ、機能と性能の両面でMaskStudioのさらなる進化を図っていく所存です。」

MaskStudioについて

レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換する、大規模対応・マルチフォーマット対応のフラクチャリングシステムです。図形演算処理機能や並列分散処理機能、ジョブ管理機能は、大規模、かつOPC処理などで複雑化した設計データをマスク描画データに変換する際のボトルネックを解消し、より高いスループットを実現します。また、微小図形抑制機能は、各マスク描画装置に適したパターンデータを生成し、マスク描画時のランニングコストとTATを削減します。

TOOL社 について

TOOL社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、自社開発ツール「LAVIS」や「MaskStudio」を代表に多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/　をご覧ください。 

本件に関するお問い合わせ先

TOOL 株式会社
マーケティンググループ
中根麻子
03-5723-8124
asako@tool.co.jp