2008年5月30日 東京 - TOOL株式会社（本社：東京都目黒区、代表取締役社長 本垰秀昭、以下  TOOL）は本日、KLA-Tencor社のLithoWareと、TOOLのレイアウト表示プラットフォーム、LAVISとの統合環境を発表いたします。本統合環境は、高精度、かつ高速なOPC/RET開発環境をお客様に提供します。

露光解像技術の複雑さがさらに増している状況下での歩留まり維持・向上には、OPC/RET環境開発において、ワーストケースにおけるCDばらつき等を高精度で厳密な物理ベースシミュレータで掌握することが必要不可欠となってきました。その一方で、厳密な物理シミュレーションに基づいた解析では、多岐に渡るホットスポット誘発パターンを網羅する必要性に対し、現実的な時間で処理できるデータサイズには限界があります。LithoWareとLAVISの統合環境では、LithoWareの内部に完全に統合された業界標準のPROLITHの物理モデルと、大規模データハンドリングと高速表示で定評のあるLAVISを使用することで、これらの問題を根本的に解決することができます。

この統合されたシームレスな環境の下では、フルチップレベルのレイアウトデータを表示して、選択したエリア上で厳密な物理モデル検証を行うことが可能となります。予測された輪郭形状により、OPC処理後のパターンとオリジナルパターンを重ね合わせたり、計測することで、その結果を徹底的に解析することができます。LithoWareモデルの分離性という特長を最大限に活用することにより、テストパターンCDデータを何度となく収集・モデルキャリブレーションすることなく、リソグラフィ、および物理状態を変更することができ、プロセスの早期段階で視覚的に問題を予測することが可能となります。

KLA-Tencor社のシニア・マーケティング、兼セールス・ディテクターのChris Sallee氏は、次のように述べています。「正確で厳密な物理モデルは、次世代に向けたOPC/RETの環境開発を構築していくために不可欠なツールです。当社のLithoWareと、TOOLのLAVISとの統合により、お互いのお客様に対して、強力なOPC/RET開発環境を提供できることを大変嬉しく思います。」

TOOLの代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたびのKLA-Tencor社と当社の統合環境の提供により、双方のお客様に対して最高のOPC/RETソリューションをご提供できることを大変嬉しく思います。今後も、LithoWareのさらなる可能性との統合を図っていく所存です。」

なお、本統合環境は、2008年6月9日から12日まで、米国カリフォルニア州アナハイムで開催されるDesign Automation Conferenceに出展されます。

LithoWareについて

LithoWareは次世代のOPC/RET環境開発において、早期段階でOPC処理後の予測をすることができる最も優れたツールです。LithoWareの厳密な物理モデルと分散処理による演算は、確かな優位性とともに、次世代を越えたリソグラフィーツールとして、日々進化しています。

LAVISについて

大規模対応・超高速表示・マルチフォーマット対応の多目的レイアウト表示プラットフォームです。独自の表示方式とメモリ管理手法により、大規模データを効率的に入力、表示することができます。 さらに、GDSII、OASIS、LEF/DEFや、各種マスク描画装置フォーマットなど、あらゆるフォーマットに対応し、他ツールや装置とのインターフェース構築も容易なことから、設計・検証・マスク製造・検査・不良解析など、全工程共通の「標準レイアウトプラットフォーム」として使用することが可能です。

TOOLについて

TOOL社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、自社開発ツール「LAVIS」を代表に多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/　をご覧ください。

本件に関するお問い合わせ先

KLA-Tencor Corporation
Chris Sallee
Sales and Marketing Director
1-512-231-4210
Chris.Sallee@kla-tencor.com

TOOL株式会社
マーケティンググループ
中根麻子
03-5723-8124
marketing@tool.co.jp