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2008年4月 - TOOL社、フラクチャリングシステムMaskStudio の最新版を発表
2008年4月9日 東京 - TOOL株式会社（本社：東京都目黒区、代表取締役社長、本垰秀昭、以下 TOOL）はこのたび、レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換するフラクチャリングシステム、「MaskStudio」の最新版、「MaskStudio Ver.７」の出荷を開始いたしました。本バージョンでは、従来から兼ね備えている描画データ変換の高速処理に加えて、レイアウト設計データの入力部の高速化を実現しています。これにより、レイアウト設計データの入力から各種マスク描画装置フォーマットへの変換にいたるTATを大幅に短縮することができます。MaskStudioは「高精度」と「高速処理」との両立を実現したフラクチャリングシステムとして、肥大化するファイルサイズにも柔軟に対応することができます。
本バージョンでの主な特長は以下のとおりです。
(1) ファイル入力の大幅な高速化 非並列処理部分であるレイアウト設計データの入力部のメカニズムを変更したことにより、大幅な高速化を実現しました。メカニズムの変更は、処理速度の向上のみならずメモリの使用量も飛躍的に削減させます。このたびの高速化により、レイアウト設計データの入力から各種マスク描画装置フォーマットへの変換までのTATは、従来のバージョンと比較して約1/2に短縮されます。 (2) 台形分割手法による、さらなる精度の向上 微小図形対策を強化し、さらなる精度の向上を実現しました。ライン幅を分断する図形分割線の生成を抑制する機能や、OPC後のデータでの微小図形の生成を抑制する機能などが、用途に応じて切り替えて使用できるようになりました。これら複数の高精度な機能は、先進データから量産品にいたるまで、あらゆる場面で威力を発揮します。 (3) レイアウト表示プラットフォーム、「LAVIS」と連動したpreview機能 LAVIS画面上で領域を指定しながら台形分割処理を行い、その結果を確認しながら台形分割パラメータを調整することができます。このpreview-Fracturing機能以外にも、形状比較検証を行うpreview-Compare機能や、MRC検証を行うpreview-MRC機能を搭載しています。LAVISとの連係を強化した各種preview機能により、ホットスポットに対してタイムリーにフラクチャリングを行うことができます。
このほかにも、並列分散処理や各種演算処理機能、ジョブ管理機能などをお使いいただくことで、より円滑に作業を行うことができます。
TOOLの代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたびのリリースで、お客様のレイアウト設計データの入力からマスク描画変換にいたるTATの大幅な削減と、品質の向上に貢献できることを大変うれしく思います。今後も先進プロセスへの対応を常に意識しながら、既存のお客様や、設計の大規模化に対する市場のニーズを的確、かつ迅速にとらえ、機能と性能の両面でMaskStudioのさらなる進化を図っていく所存です。」
なお、上記内容は４月にパシフィコ横浜で開催されるPhotomask Japan 2008に出展されます。
MaskStudioについて
レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換する、大規模対応・マルチフォーマット対応のフラクチャリングシステムです。図形演算処理機能や並列分散処理機能、ジョブ管理機能は、大規模、かつOPC処理などで複雑化した設計データをマスク描画データに変換する際のボトルネックを解消し、より高いスループットを実現します。また、微小図形抑制機能は、各マスク描画装置に適したパターンデータを生成し、マスク描画時のランニングコストとTATを削減します。
TOOLについて
TOOL株式会社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、「LAVIS」や「MaskStudio」を代表に、多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/ をご覧ください。
本件に関するお問い合わせ先
TOOL株式会社
マーケティンググループ
中根麻子
03-5723-8124
marketing@tool.co.jp
製品に関するお問い合わせ先
TOOL株式会社
営業部
03-5723-8144
sales@tool.co.jp