2008年2月 - Electronic Design and Solution Fair 2008出展のご報告
先般、パシフィコ横浜で開催されました 「Electronic Design and Solution Fair 2008」 におきましては、多くのお客様に弊社ブースにお越しいただき、 誠に有難うございました。
また、「設計フローにおける多角的視覚検証 ~LAVISの活用術~」 と題しま した出展者セミナーにも定員を上回るお客様にご参加いただき、厚くお礼申 し上げます。
今回の出展を通じまして、高速表示、標準レイアウトプラットフォーム、 LAVIS に対する期待の高さと、等電位追跡機能の強化や3次元表示機能 (オプション)など、先進機能に対する関心の高さを改めて実感いたしました。
これからもお客様のご期待にお応えすべく、より一層の機能強化を図りながら、 最適な 「EDAソリューション」 をご提供させていただく所存でございますので、 引き続き LAVIS、MaskStudio などの弊社製品群をご愛顧いただき、 今後とも TOOL 株式会社をお引き立てのほど、よろしくお願い申し上げます。
なお、ご質問やご要望などがございましたら、お気軽にお問い合わせください。
EDSFair 2008 展示会の様子
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TOOL社ブース(2)
