2007年４月10日 ドイツ ヴァイルブルグ、東京 - ドイツ ヴィステックセミコンダクタシステムズ（本社：ドイツ ヴァイルブルグ、ジェネラルマネージャ Gerhard Ruppik、以下 ヴィステック）とTOOL株式会社（本社：東京都目黒区、代表取締役社長 本垰秀昭、以下 TOOL）はこのたび、ヴィステックのフォトマスク対応SEM式CD測長（以下、測長）装置、LWM9000 SEMと、TOOLのレイアウト表示プラットフォーム、LAVISを統合（以下、インテグレーション）しました。本インテグレーションは、ヴィステック、TOOL 両社で検討した独自の方式を用い、測長対象となる設計データをLAVISで表示しながら、簡単なマウス操作で視覚的にレシピ（LWM9000 SEM用の測長指示ファイル）を作成することを可能にしました。レシピは直接LWM9000 SEMで読み込むことができるため、ユーザはレシピの書式を気にせず、高品質な測長指示ファイルを短期間で作成することができます。

プロセスの微細化に伴い、超解像度技術も多様化してきています。歩留まり向上のためには、近接効果補正（OPC）や異物・製造起因の欠陥検査だけでは不十分であり、統計的な結果から欠陥が発生しやすいパターンを高精度に測長する技術が求められています。LWM9000 SEMは、半導体フォトマスク上の微細パターンを高精度に測長する65nmノード以降対応のSEM式CD測長装置で、1 nm（3σ）以下の繰り返し測長再現精度があり、安定的な測長が可能です。測長に使用する測長情報（座標）や測長条件などが入力されたレシピには高い正確性が要求され、またその作成時間の短縮はマスク製造工程の効率化にもつながります。

そこで、本インテグレーションは、大規模データを高速かつ高品質に表示し、各種ツールや装置との連係も容易なLAVISの「プラットフォーム」としての特長を生かし、LAVIS上で設計データを表示し、パターンを確認しながらマウス操作により測長箇所を選択する操作を繰り返すことで、レシピを自動的に作成できるようにしました。保存したレシピはLWM9000 SEMで読み込み、測長に利用することが可能です。また、LAVIS上でパターンを測長することもできます。ユーザ様からは、「レシピ作成工数は手作業で作成する場合と比べ、1/10以下になった。」との声をいただいております。

TOOL代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「フォトマスク上の微細パターンの高精度測長装置であるLWM9000 SEMと、多目的レイアウト表示プラットフォームであるLAVISとのインテグレーションにより、互いに共通のお客様の測定効率向上に貢献できることを大変光栄に思います。」

ヴィステックのジェネラルマネージャ、Gerhard Ruppik は次のように述べています。「TOOL社との協業は、あらゆる点において成功しました。我々はお客様に対し、次世代テクノロジーノードに対応した画期的なソリューションを提供できることを大変うれしく思います。」

なお、本インテグレーションは、4月にパシフィコ横浜で開催される Photomask Japan に出展されます。

LWM9000 SEM について

ヴィステックのLWM9000 SEM は、65nmノード以降に対応した初のSEM式CD測長装置で、チャージアップやコンタミネーションの影響を良好に抑制する事が可能です。独自のチャージアップ抑制技術により、ドリフトのない品質の高い画質を実現しています。また、低アウトガスなチャンバーとステージ材料を採用し、かつ、in-situオゾン洗浄によりマスク基板への汚染を大幅に抑制しています。これらにより、サブナノメータ以下という他に類を見ない、高精度なCD測長再現性を可能にしています。高精度なレーザー干渉計でステージの位置を制御するため、パターンマッチングの必要がなく、高いスループットを実現しています。また、使い勝手がよく、広く受け入れられているLMS IPRO2のユーザインターフェースを採用することで、本システムと、最先端フォトマスクの品質管理およびプロセスエンジニアリングを容易に統合することが可能です。また、オペレータのトレーニング負荷を軽減することもできます。

マスク線幅測定用アプリケーションのプロダクトマネージャ、Gerhard Schlueter は次のように述べています。「実績が証明するように、ヴィステックは、フォトマスクやレチクル上のパターンの線幅を測定するCD-SEM市場に参入して約2年で、同世界市場においておよそ70%のシェアを獲得するマーケットリーダーとなりました。」

LAVISについて

大規模対応・超高速表示・マルチフォーマット対応の多目的レイアウト表示プラットフォームです。独自の表示方式とメモリ管理手法により、大規模データを効率的に入力・表示することができます。 さらに、GDSIIをはじめとする設計データや、各種マスク描画装置フォーマットなど、あらゆるフォーマットに対応し、他ツールや装置との I/F構築も容易なことから、設計・検証・マスク製造・検査・不良解析など、全工程共通の「標準レイアウトプラットフォーム」として使用することが可能です。

Vistec Semiconductor Systemsについて

ヴィステックセミコンダクタシステムズ社は、世界中の半導体メーカーや研究機関にその主要な技術を提供しています。画期的な製品ラインアップには、フォトマスクおよび半導体デバイス製造で使用する検査システム、欠陥検出および分類システム、計測システムがあります。これらのシステムは、マイクロチップやフォトマスクの製造、研究機関で利用されています。また、ドイツの生産施設に加え、アメリカ、日本、中国、シンガポール、台湾、および韓国にサポートセンターを設置しています。

ドイツ、ヴァイルブルグのヴィステックは、ヴィステックセミコンダクタシステムズグループの一部であり、以下の3つの事業体で構成されています。
     ・ ドイツ、ヴァイルブルグを所在地とするヴィステックセミコンダクタシステムズ
     ・ ドイツ、イエナを所在地とするヴィステックエレクトロンビーム
     ・ イギリス、ケンブリッジを所在地とするヴィステックリソグラフィ

会社および製品の詳細につきましては、www.vistec-semi.comをご覧ください。

TOOLについて

TOOL社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、自社開発ツール「LAVIS」を代表に多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/　をご覧ください。

本件に関するお問い合わせ先

Vistec Semiconductor Systems GmbH
Petra Breyer
Marketing Communication Specialist
+(49) 6471-910-2403
Petra.Breyer@vistec-semi.com

TOOL 株式会社
マーケティンググループ
中根麻子
03-5723-8124
marketing@tool.co.jp