2007年4月3日 東京 - TOOL株式会社（本社：東京都目黒区、代表取締役社長、本垰秀昭、以下 TOOL）はこのたび、レイアウト設計データを各種マスク描画装置フォーマットに変換するフラクチャリングシステム、「MaskStudio」を大幅に改良し、「MaskStudio Ver.6」の出荷を開始いたしました。本バージョンは、単なる機能追加によるバージョンアップではなく、変換処理の内部アーキテクチャを一新し、大幅に変換処理時間を短縮、出力ファイルサイズを縮小、MRC機能を搭載するなど、より「高速」かつ「高品質」な処理を実現しています。

本バージョンの主な特長は以下のとおりです。

  （１） 変換処理時間の短縮と出力ファイルサイズの縮小
        図形演算を飛躍的に高速化し、かつ出力フォーマットに依存しない変換を可能にしたことで、
        変換速度を大幅に向上しました。具体的には、図形の拡大や縮小など、リサイズ処理を加えた
        変換処理の場合、従来のバージョンと比較して、変換処理時間は1/5に短縮、出力ファイル
        サイズは30% 縮小されます。
  （２） 対応フォーマットの拡張
        LSIレイアウト次世代標準フォーマット、OASISの入出力に完全に対応しました。over 32-bit
        integerにも対応しており、入力時だけでなく、変換処理中も精度を落とすことなく扱うこと
        ができます。
  （３） 肥大化する入出力ファイルに対応
        compressやgzip、bzip2、7zipで圧縮されたファイルを展開することなく入力し、指定した
        形式で圧縮出力できるようにしました。扱うデータサイズが肥大化し、容易でなくなってきて
        いるデータの受け渡しや、ディスクの圧迫などの問題を解決します。
  （４） MRC（Mask Rule Check）機能の搭載
        OPC処理をほどこした設計データをマスク描画装置フォーマットに変換する際に、パターンの
        線幅や間隔などを確認する、MRC機能を搭載しました。LAVISで問題箇所を視覚的に表示、
        確認することも可能です。

最近のユーザ評価では、「MaskStudioは、性能面ではスペック通りの結果が得られ、豊富なGUIは使い勝手がよく、導入もしやすい。」とのコメントをいただいています。

TOOL の代表取締役社長、本垰秀昭は次のように述べています。「このたびのリリースで変換処理時間を飛躍的に短縮できたことで、MDP工程におけるTATの短縮と品質の向上に貢献できることをうれしく思います。今後も更に進んでいくプロセスの微細化への対応や、新技術の導入により変化するニーズを迅速かつ的確にとらえ、最適なソリューションを提供できるよう、機能と性能の両面で充実を図っていく所存です。」

なお、上記内容は4月にパシフィコ横浜で開催されるPhotomask Japanに出展されます。

TOOLについて

TOOL株式会社は、EDAツールの開発を中心に取り組む日本のソフトウェア開発会社です。特にレイアウト設計フェーズ以降では、「LAVIS」や「MaskStudio」を代表に、多くの実績を積んでいます。当分野での豊富な経験から開発されたパッケージソフトウェアとカスタムソフトウェア開発技術との融合により、お客様の問題解決に的確なソリューションを提供いたします。会社および製品の詳しい情報については、http://www.tool.co.jp/ をご覧ください。

本件に関するお問い合わせ先

TOOL株式会社
マーケティンググループ
中根麻子
03-5723-8124
marketing@tool.co.jp